La habilitación de propiedades novedosas, mecánicas, ópticas, y electrónicas que presentan las nanoestructuras de materiales inorgánicos depende del control de su nanoarquitectura en 3D. En una amplia gama de aplicaciones recientes de metamateriales con propiedades mecánicas, para computación neuromórfica y generación de energía, se requieren armazones en 3D con materiales de composición compleja y arquitecturas en la nanoescala. Para este propósito además de los procesos de manufactura aditiva, los métodos litográficos de múltiples pasos y diversos métodos para los depósitos, proveen control estructural y resolución entre 30 y 100nm.
Investigadores de E.U.A. aprovecharon los arreglos programables de ADN y los aplicaron al diseño de nanoestructuras ordenadas en 3D de materiales inorgánicos, por medio de infiltración de fase líquida y fase vapor en metales, óxidos metálicos, semiconductores y sus combinaciones. Obtuvieron nanoestructuras de zinc, aluminio, cobre molibdeno, tungsteno, indio, estaño, platino y compositos como el óxido de zinc dopado con aluminio, el óxido de estaño con indio y el óxido de zinc dopado con platino/aluminio. Las nanoestructuras-3D presentan características en la escala nanométrica ordenadas por la estructura del ADN y la red autoensamblada.
Los estudios estructurales y espectroscópicos de los materiales seleccionados revelan la composición y estructura de las nanoestructuras inorgánicas así como de sus propiedades optoelectrónicas.
Esta estrategia para la nanofabricación puede ser vital para una amplia gama de aplicaciones que requieran nanoestructuras en 3D con arquitecturas y composiciones complejas. El objetivo de este trabajo es establecer una metodología para hacer litografía-3D molecularmente programable en la nanoescala.
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